Nanolitografía

Conoce una gran variedad de sistemas y equipos para nanolitografía sin máscara, óptica que ofrece flexibilidad, facilidad de uso y rentabilidad en el procesamiento.

Un uso tradicional es la fabricación de fotomáscaras utilizadas en aplicaciones estándar de litografía UV. La escritura directa por láser es una forma creciente de litografía sin máscara óptica que ofrece flexibilidad, facilidad de uso y rentabilidad en el procesamiento de obleas cuando se trabaja con tamaños de características de aproximadamente 500 nm o más.

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µMLA

Lo último en tecnología sin máscara construido sobre la reconocida plataforma µPG. Es una herramienta perfecta para prácticamente cualquier aplicación que requiera microestructuras. Ejemplos típicos son los microfluidos (dispositivos de clasificación de células, laboratorio en un chip), escritura de máscaras a pequeña escala, microópticas y conjuntos de microlentes, sensores, MEMS, materiales 2D de contacto y electrodos en abanico, etc.

DWL 2000 GS / DWL 4000 GS

Los sistemas de litografía láser DWL 2000 GS / DWL 4000 GS son generadores de patrones de alta resolución rápidos y flexibles. Están optimizados para litografía en escala de grises a nivel industrial y diseñados para patrones de alto rendimiento de máscaras y obleas para circuitos integrados, MEMS, dispositivos microópticos y microfluídicos, sensores, hologramas y funciones de seguridad en billetes y tarjetas de identificación.

ULTRA

Es un escritor de máscaras láser calificado específicamente para fotomáscaras de semiconductores maduros. Las fotomáscaras semiconductoras se utilizan para fabricar dispositivos electrónicos, incluidos microcontroladores, administración de energía, LED, Internet de las cosas (IoT) y MEMS.

DLW 66+

Es un generador de patrones de escritura directa de alta resolución. Como todoterreno, el DWL 66 + es ideal para investigación y desarrollo (I+D) en microelectrónica, MEMS, microfluidos, sensores, sustratos no estándar, embalajes avanzados y prácticamente cualquier aplicación académica que requiera fabricación de microestructuras.

VPG+ 200 / VPG+ 400

Son sistemas de litografía diseñados para la fabricación de máscaras multipropósito para resistencias i-line. Admiten todos los tamaños estándar de mascarillas pequeñas y medianas, hasta 410 x 410 mm 2 . Las aplicaciones incluyen fabricación de máscaras para MEMS, embalaje avanzado, integración 3D, máscaras LED y OLED y microfluidos.

VPG+ 800 / VPG+ 1400

Estas herramientas VPG + de área grande están diseñadas para el modelado de alto rendimiento de obleas de área grande (de 0,8 a 1,4 m). El VPG + 1400 es nuestro sistema más grande diseñado específicamente para la industria de las pantallas. Es óptimo para aplicaciones de pantalla plana (FPD), como matrices TFT, filtros de color e ITO. Estas herramientas también se utilizan para aplicaciones industriales de fotomáscara de áreas grandes para aplicaciones avanzadas de embalaje, semiconductores, LED y paneles táctiles.