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Equipos DLI-CVD / DLI-ALD
Estos equipos permiten depositar películas delgadas por CVD y ultra delgadas por ALD a partir de precursores líquidos.
Annealsys está desarrollando procesos para la deposición de óxidos multimetálicos, metales, capas de nitruros de metales de transición y también materiales 2D, incluidos grafeno, nitruro de boro hexagonal y dicalcogenuros de metales de transición (TMD).
Las máquinas están disponibles para sustratos de hasta 50 mm, 100 mm o 200 mm de diámetro.
En la máquina de 50 mm se pueden procesar pequeñas piezas 3D (de unos pocos centímetros). Nuestros sistemas de deposición DLI ofrecen capacidades multiproceso dentro de la misma cámara de proceso: DLI-CVD, DLI-ALD, MOCVD, CVD de presión de pulso e incluso procesamiento térmico rápido (RTP) in situ para el MC-050.
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