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Sistemas de Depósito y Tratamientos Térmicos

Sistemas de Depósito

Sistemas de Depósito y Tratamientos Térmicos

Intercovamex tiene mas de 25 años de experiencia en la distribución, diseño, fabricación, reacondicionamiento, instalación y mantenimiento de sistemas de deposito al vacío de películas delgadas (10 a 1000 nm) y recubrimientos (1 a 15 micras típicamente). Ofrecemos sistemas PVD (physical Vapor deposition) y CVD (Chemical Vapor deposition) para aplicaciones como recubrimientos duros, tratamientos antireflejantes, metalizado, semiconductores, dispositivos optoelectrónicos y médicos. Las técnicas PVD incluyen erosion catódica (sputtering), arco catódico (vacuum arc), evaporación resistiva, evaporación por cañon de electrones, epitaxia por haces moleculares (MBE) y deposito por laser pulsado (PLD). Las técnicas CVD incluyen MOCVD, RT CVD, PECVD y ALD. Se ofrecen también técnicas a presión atmosférica como electrospinning y spin coating.

Tratamientos Térmicos

Sistemas de Depósito y Tratamientos Térmicos

Los tratamientos térmicos rápidos (RTP) son procesos en los cuales se calientan las obleas de silicio a altas temperaturas (más de 1000 °C) en una escala de tiempo de varios segundos o menos. Sin embargo, durante el enfriamiento, las temperaturas de la oblea deben bajarse lentamente para evitar las dislocaciones y la rotura de la oblea debido a un choque térmico. Estos procesos se utilizan para una amplia variedad de aplicaciones en la fabricación de semiconductores, incluida la activación de dopantes, la oxidación térmica, el reflujo de metales y la deposición química en fase vapor.