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Equipos CVD Automatizados

Los sistemas de depósito de inyección directa de líquidos (DLI, por sus siglas en inglés) de Annealsys utilizan vaporizadores DLI de última generación que permiten el uso de precursores químicos de baja presión de vapor y térmicamente inestables.

Los equipos se utilizan para procesos de depósito de capas de óxidos de metales de transición, óxidos de metales múltiples, y también materiales 2D que incluyen grafeno, nitruro de boro hexagonal y dicalcogenuros de metales de transición (TMD).

Los equipos están disponibles para sustratos de hasta 50mm, 100mm o 200mm de diámetro.

Nuestros sistemas de deposición DLI ofrecen capacidades multiproceso dentro de la misma cámara: DLI-CVD, DLI-ALD, MOCVD, CVD de presión de pulso e incluso procesamiento térmico rápido in situ (RTP) para el MC-050.

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