Equipos ALD Automatizados

Actualmente, ofrecemos dos sistemas de vanguardia para el depósito de capas atómicas (ALD): el ALD150LX y el ALD150LE. A medida que las características del sustrato continúan disminuyendo en tamaño a la vez que aumentan en complejidad, las técnicas ALD serán cada vez más importantes para satisfacer las estrictas demandas de películas delgadas conformes, prístinas, de alta calidad y sus interfaces. Ambos sistemas son ideales para enfrentar incluso los desafíos más exigentes asociados con la próxima generación de nanotecnología 3D.