Equipos ALD

Conoce dos sistemas de vanguardia para el depósito de capas atómicas (ALD).

Ambos sistemas son ideales para enfrentar incluso los desafíos más exigentes asociados con la próxima generación de nanotecnología 3D.

ALD-150LX™

Es un sistema de deposición de capas atómicas (ALD) diseñado específicamente para aplicaciones avanzadas de investigación y desarrollo.

Las innovadoras características de diseño del ALD150LX, como técnica patentada de Kurt J Lesker de enfoque de precursores™ y avances como su capacidad de proceso de pureza ultra alta (UHP) pendiente de patente, brindan flexibilidad y rendimiento incomparables.

ALD-150LE™

El ALD150LE está configurado para ALD puramente térmico y su diseño exclusivo de cámara de proceso promueve la dispersión y entrega uniforme del precursor. El control superior de calefacción y temperatura mejora aún más el rendimiento del sistema. En general, el ALD150LE™ proporciona flexibilidad y rendimiento incomparables en un diseño compacto sin sacrificar la facilidad de servicio.