RTP

Los hornos de procesamiento térmico rápido (RTP) de Annealsys pueden abordar varias aplicaciones con un rango de temperatura y capacidad de vacío extendidos. Los hornos de lámparas infrarrojas pueden realizar recocidos de hasta 1450 °C y una duración de hasta 1 hora a 1200 °C.

El sistema Zenith de alta temperatura puede funcionar a 2000 °C durante 1 hora. Las aplicaciones incluyen procesos de Recocido Térmico Rápido (RTA) como el recocido óhmico por contacto y el recocido por implantación, así como la Deposición Rápida de Vapores Químicos Térmicos (RTCVD) de grafeno o nitruro de boro hexagonal (h-BN).

Estos versátiles sistemas RTP pueden procesar muestras desde pocos mm² hasta 200mm de diámetro con carga manual o automatizada para producción, incluidas soluciones personalizadas para procesar obleas semiconductoras compuestas con susceptores.