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Válvulas en Línea

Estas válvulas cuentan con sellos de anillo de fluorocarbono en forma de O (O-ring) con fuelles como eje integrados, también tienen una tasa de fuga de 2×10-9 mbar.L/s soportando presiones atmosféricas hasta presiones de 1×10-9 Torr en alto vacío (HV), con cuerpo de Acero Inoxidable.

Recomendadas para aplicaciones donde se requiere una conexión de línea entre 2 puertos de desplazamiento. Disponibles para accionamiento manual y neumático.

Aplicación principal:

  • Manufactura de semiconductores.
  • Investigación física con plasma.
  • Aceleradores nucleares.

 

*Marcas disponibles: Pfeiffer Vacuum, MKS, Kurt J. Lesker, VAT.

 

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